FVO-450 Series High Temperature Vacuum Oven

產品特色
• 每個腔室最多可容納 50 片 300mm 晶圓。
• 低氧(背景氧含量低於 10ppm)
• 持續的層流處理氣體與晶圓平行流動
• 移除因熱膨脹釋放的氣溶膠顆粒
• 均勻的氣體環境圍繞晶圓,有助於薄膜溶劑的蒸發與去除
• 處理溫度範圍:環境 +20~450℃
• 四個處理溫度控制區,穩定後溫度均勻性優於 ± 1℃
• 最大加熱速率 8℃/分鐘,冷卻速率 4℃/分鐘
• 處理氣體在進入腔室之前加熱至處理溫度
• 符合 S2、S8 標準
• 腔室真空排氣

產品應用

  • CoWos 封裝熱固化
  • 聚醯亞胺固化
  • BCB 固化
  • 光阻固化
  • 銅退火
  • 氧化銅去除

 

規格

型號

FVO-450-1

FVO-450-2

晶圓尺寸

300mm

300mm

機台尺寸

(寬 x 深 x 高)

2132 x 3521 x 2510 毫米

3140 x 3521 x 2510 毫米

重量

1820 公斤

3500 公斤

烤箱數量

1

2

溫度範圍

環境溫度 +20°C 到 450°C

溫度均勻性

穩定後,溫度均勻性優於 ±1℃ (≦ 250℃)
穩定後,溫度均勻性優於 ±0.5% (> 250℃)

晶圓定位

水平

機械手臂

1 台 SCARA Robot,無軌道,雙臂,配備映射感應器。

1 台 SCARA Robot,有軌道,雙臂,配備映射感應器。

晶圓末端執行器

1+1 末端執行器

FOUP 開蓋裝置

2 x SEMI 標準 FOUP Openers

4 x SEMI 標準 FOUP Openers

空氣潔淨度

Class 10

電源供應

3~+PE 220VAC 50/60Hz

設施需求

CDA 壓力:0.55MPa ~ 0.75MPa (Ø8 Swagelok)
真空壓力:-80k ~ -100 kPa (Ø8 Swagelok)
N2 壓力:0.55MPa ~ 0.75MPa (Ø16 Swagelok)
排氣(製程用): 200 L/min maximum (KF25)
排氣(熱風): 57000 L/min (12" 圓形管道領口)

CDA 壓力:0.55MPa ~ 0.75MPa (Ø8 Swagelok)
真空壓力:-80k ~ -100 kPa (Ø8 Swagelok)
N2 壓力:0.55MPa ~ 0.75MPa (Ø16 Swagelok)
排氣(製程用): 200 L/min maximum (KF25) x2
排氣(熱風): 57000 L/min (12" 圓形管道領口) x2

環境

操作溫度:5℃ 至 40℃

操作濕度:35% 至 55%

通訊介面

SECS (HSMS-SS)

EFEM 設備前端模組

FFU: 99.9995% 在 0.12 um

控制器

IPC+ 電氣控制系統,操作系統為 Win 10 或更新版本

不斷電系統

僅 IPC 保持 30 分鐘,烤箱除外

安全裝置

門鎖互鎖、過電流保護、漏電斷路器、過溫保護